三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有用部分（约***%）能够以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有期望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优秀的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，选用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，并且对外表无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路资料的蚀刻中，三氟化氮有很优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物外表不留任何残留物，一起也是十分杰出的清洗剂。跟着纳米技能的开展和电子工业大规模的开展技能，它的需求量将日益添加。

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